Compact Sputter ACS-4000-CS

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Sputtering Systems

Bombardeador Compacto ACS-4000-C3

El sistema compacto de bombardeo se ofrece para investigación y desarrollo de películas delgadas multicapa, materiales compuestos y otros dispositivos. Este sistema ofrece operación de procesos automática a través de un PC y puede manejar sustratos hasta de 4" de diámetro.

Características

Fácil mantenimiento a través de su brida articulada en la tapa de la cámara.
Los tres juegos de cátodos de bombardeo de tiro largo (LTS) están equipados con capacidad para sustratos de 2" de diámetro. También se ofrecen para sustratos de 4" de diámetro.
Operación automática controlada por PC.
Motor de transferencia wafer desde el bloqueo de entrada hasta la cámara de proceso.
Sistema de bombardeo adaptable para películas multicapa o procesos de película de aleación.
Tamaño compacto por la utilización de repisas compactas de control electrónico para instrumentación (no mostrada)

Aplicaciones

Dispositivos de sensores magnéticos MRAM
Producción piloto de dispositivos discretos para electrodos
Investigación y desarrollo de nuevos materiales.
Herramientas educativas o uso multipropósito

Especificaciones

Tamaño del sustrato		φ4 pulg diámetro. ( espesor máximo. 1mm ) x 1 pieza/lote
Construcción		Cámaras ( Cámara de carga segura y cámara de bombardeo)
Cámara de carga segura	Transferencia de sustrato	Sistema de transferencia de motor
Cámara de carga segura	Presión máxima del sistema de bombeo	50 L/seg(N2) bomba turbomolecular y bomba rotativa de aceite ~6.7 x 10^-4Pa
Cámara de bombardeo	Tamaño de la cámara	Aproximadamente φ400 mm x H 600 mm, cámara cilíndrica fabricada en acero inoxidable
	Calentamiento del sustrato	Temp. Max. 500°C
	Cátodos	Tamaño del objetivo, Q pulgadas de diámetro. Tipo: LTS RF suministro de energía con caja de acople x 3 (con ventilador refrigerante) *Co-bombardeo que puede controlarse por PC
	Presión final del sistema de bombeo	Bomba turbomolecular de 400 L/seg y bomba rotativa de aceite ~1 x 10^-7Pa

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